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應(yīng)用于磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)的設(shè)計(jì)

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2012-08-30  瀏覽次數(shù):615

 

應(yīng)用易控(INSPEC)通用組態(tài)式監(jiān)控系統(tǒng)軟件開(kāi)發(fā)自動(dòng)化控制的畫(huà)面,通過(guò)上位機(jī)畫(huà)面可以對(duì)鍍膜生產(chǎn)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控,并將重要數(shù)據(jù)記到文件保存下來(lái)。當(dāng)生產(chǎn)發(fā)生異常時(shí),進(jìn)行越限或故障聲音報(bào)警及文字提示,同時(shí)彈出有關(guān)畫(huà)面,便于操作人員快速分析、處理,以便在最短的時(shí)間內(nèi)恢復(fù)生產(chǎn)。

下位機(jī)由三菱PLC加上各種模塊構(gòu)成,包括:一臺(tái)FX2N-128MR主機(jī),一個(gè)FX2N-16EYR輸出擴(kuò)展模塊,四個(gè)FX2N-4DA模擬輸出模塊,兩個(gè)FX2N-4AD模擬輸入模塊一個(gè)FX2N-232-BD通信板。

 

 

易控(INSPEC)通用組態(tài)式監(jiān)控系統(tǒng)支持OPC服務(wù)器,可連接第三方的軟件:由于三菱PLC有專門(mén)的通信驅(qū)動(dòng)程序,上位機(jī)和下位機(jī)之間采用串口RS-232屏蔽電纜進(jìn)行數(shù)據(jù)交換。上位機(jī)與下位機(jī)之間以問(wèn)答方式進(jìn)行數(shù)據(jù)通信,采用由上位機(jī)向下位機(jī)發(fā)送通信命令(下行命令),上位機(jī)在接收下位機(jī)發(fā)回的相應(yīng)回答命令(上行命令)后,繼續(xù)發(fā)送下行命令的通信形式。根據(jù)監(jiān)控系統(tǒng)功能的要求,通信協(xié)議采用周期命令方式進(jìn)行發(fā)送,數(shù)據(jù)傳送采用事件驅(qū)動(dòng)的通信方式。對(duì)于接收的數(shù)據(jù)通信,通信協(xié)議在進(jìn)行幀長(zhǎng)度校驗(yàn)、字符校驗(yàn)和超時(shí)校驗(yàn)后發(fā)送給上位機(jī)。若校驗(yàn)時(shí)發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤,則應(yīng)用重發(fā)機(jī)制對(duì)錯(cuò)誤幀進(jìn)行重發(fā),直至正確接收。

所有控制工作都由下位機(jī)完成,上位機(jī)只負(fù)責(zé)提供人機(jī)交互界面,進(jìn)行指令接收和發(fā)送、自動(dòng)化進(jìn)程控制、數(shù)據(jù)顯示存儲(chǔ)、參數(shù)設(shè)定、報(bào)表打印和數(shù)據(jù)處理等。在系統(tǒng)運(yùn)行過(guò)程中,上位機(jī)一直和下位機(jī)實(shí)時(shí)通信,從而保證界面上顯示的數(shù)據(jù)和實(shí)際數(shù)據(jù)相一致;操作人員在上位機(jī)上發(fā)出的操作命令和設(shè)定的參數(shù)也都可以實(shí)時(shí)的送到下位機(jī)上執(zhí)行。由于配備觸摸作為冗余操作設(shè)備,生產(chǎn)線可隨時(shí)脫離計(jì)算機(jī)監(jiān)控系統(tǒng)轉(zhuǎn)換到觸摸屏操作模式,而不影響生產(chǎn),便于設(shè)備維護(hù),增進(jìn)了系統(tǒng)的可靠性。

3系統(tǒng)工藝流程的設(shè)計(jì)的控制過(guò)程實(shí)現(xiàn)

依據(jù)磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線的

工藝要求,鍍膜生產(chǎn)控制可設(shè)計(jì)成四個(gè)分時(shí)動(dòng)作過(guò)程。第一個(gè)過(guò)程是真空獲得,為保證鍍膜的質(zhì)量,系統(tǒng)要求必須具備一定的基礎(chǔ)真空;

第二個(gè)過(guò)程是離子轟擊,為了提高膜層的附著力,采用高能離子轟擊清洗工件表面,以去除表面雜物及臟物;

第三個(gè)過(guò)程是磁控濺射鍍膜,從陰極發(fā)身出來(lái)的電子,在磁場(chǎng)和電場(chǎng)中受到洛侖茲力的作用,沿著磁場(chǎng)的方向作擺線動(dòng)力前進(jìn),沉積到工件表面開(kāi)成薄膜;

第四個(gè)過(guò)程是系統(tǒng)開(kāi)關(guān)機(jī),這是鍍膜前后對(duì)整個(gè)設(shè)備的處理操作。

3.1真空獲得過(guò)程的自動(dòng)化控制設(shè)計(jì)

磁控鍍膜生產(chǎn)線真空系統(tǒng)采用滑閥真空泵一羅茨真空泵一高真空油擴(kuò)散泵機(jī)組來(lái)獲取低真空和高真空,采用微機(jī)型數(shù)顯真空計(jì)來(lái)檢測(cè)真空度,該過(guò)程的自動(dòng)化控制包括:①機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、真空計(jì)、水泵的啟停控制;②各真空計(jì)的高、低真空值輸出控制;③各真空閥門(mén)、翻板閥的開(kāi)閉控制。

整套設(shè)備采用循環(huán)水處理冷卻,所以系統(tǒng)在沒(méi)有接收到水壓指示前不能開(kāi)啟真空機(jī)組。翻板閥用來(lái)實(shí)現(xiàn)大氣與低真空室以及低真空室與高真空室之間的隔離;真空閥門(mén)用來(lái)控制真空抽氣通路的通斷。系統(tǒng)通過(guò)控制氣動(dòng)裝置來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)閥門(mén)的打開(kāi)與關(guān)閉。

3.2離子轟擊過(guò)程的自動(dòng)化控制設(shè)計(jì)

對(duì)于某些機(jī)型(如亞克力鍍膜生產(chǎn)線),為了提高薄膜的附著力,本系統(tǒng)采用了高能離子轟擊作為鍍前處理工藝。在轟擊清洗過(guò)程中,控制指標(biāo)是氬氣質(zhì)量流量、轟擊電壓、轟擊電流、轟擊時(shí)間和傳動(dòng)速度等;為了滿足鍍膜工藝的要求,可以選擇工件緩慢地通過(guò)轟擊室,一邊行進(jìn)一邊轟擊;也可以選擇工件停留在轟擊室,轟擊一段時(shí)間后再進(jìn)入緩沖室,這就實(shí)現(xiàn)了對(duì)工件的高能離子清洗。

 

 
 
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