項目編號：0714-1440ETC02304
設(shè)備名稱及數(shù)量：金屬膜熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 1套
一 招標(biāo)內(nèi)容
1、設(shè)備名稱及數(shù)量 ：金屬膜熱蒸發(fā)鍍膜機(jī) 1套
2、設(shè)備基本要求
主要組成 (Main Contents)
金屬膜熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)由真空系統(tǒng)（真空腔室＋高真空排氣系統(tǒng)）、蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)（含電子槍＋離子束源）、膜厚監(jiān)控系統(tǒng)、基片架及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)和鍍膜自動控制系統(tǒng)組成，要求一體化集成，穩(wěn)定性好、操作方便。
4.1 真空系統(tǒng)
4.1.1 真空室尺寸：不小于650 mm×650 mm×900 mm（H）；真空室腔體采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼，真空室門、外壁、底板均配有循環(huán)冷卻水管，門上有不少于1個觀察窗（用于觀察蒸發(fā)源、基片架等），并配有防強(qiáng)光和電子束輻射的玻璃和觀察窗防污擋板；
4.1.2 抽氣系統(tǒng)：由分子泵+干泵組成；抽速由制造商根據(jù)真空排氣性能自行配置；
4.2 蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
*4.2.1 MarkⅡ離子源：離子源均勻作用范圍為基片架截面的95%以上，離子源工作穩(wěn)定性好，可連續(xù)工作4小時；
4.2.1.2 離子源功率：大于3 kW，陽極電流大于5A；
4.3膜厚監(jiān)控系統(tǒng)
4.3.1 石英晶體控制器：采樣測量時間≤100ms，測量石英晶體頻率6MHz?？商峁┎簧儆?個探頭進(jìn)行物理厚度監(jiān)控，以適應(yīng)長時間鍍膜需求；
4.4 基片架及旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)
4.4.1 基片架及驅(qū)動機(jī)構(gòu)：基片架驅(qū)動裝置采用磁流體密封。采用平面行星基片架（公轉(zhuǎn)加自轉(zhuǎn)），行星盤數(shù)量不少于3個，行星盤裝卸方便.基片架載重量：≥30kg；基片架轉(zhuǎn)速：0～30rpm可調(diào)；
二 獲取招標(biāo)文件的辦法和時間
投標(biāo)人可從2014年1月23日起至2014年2月12日9:00時至16:00時止（北京時間）（節(jié)假日除外）到中國電子進(jìn)出口總公司21層2112室購買招標(biāo)文件。本招標(biāo)文件每套售價為 800 元人民幣（含招標(biāo)文件及電子版一份）售后不退（所有和投標(biāo)有關(guān)的費用均不接受個人名義匯款）。

三 接受投標(biāo)時間、投標(biāo)截止時間及開標(biāo)時間
1、接受投標(biāo)時間：于2014年2月13日上午9:30時(北京時間)
2、開標(biāo)時間：于2014年2月13日上午9:30時(北京時間)

四 投標(biāo)地點和開標(biāo)地點：
陜西省西安市高新區(qū)新型工業(yè)園信息大道17號科園商務(wù)酒店
五 招標(biāo)代理機(jī)構(gòu)：中國電子進(jìn)出口總公司