自主創(chuàng)新,高效率觸控蓋板專用鍍膜機深圳誕生
　　同樣產(chǎn)能投資僅為進口設(shè)備1/5到1/3
　　目前，磁控濺射光學(xué)鍍膜在國內(nèi)還是個新詞匯。最早的磁控濺射光學(xué)鍍膜機出現(xiàn)在上個世紀末的北美（美國和加拿大），鍍制出來的光學(xué)膜就是AR膜（減反光膜）。隨著技術(shù)的進步，幾十層的光學(xué)膜系被磁控濺射鍍膜機鍍制出來。
　　在上世紀末光通訊大發(fā)展時期，美國的一家公司使用磁控濺射鍍膜機鍍制出100G的DWDM濾光片，目前這種鍍膜機還在用于CWDM和光通訊截止濾光片的生產(chǎn)。在被稱作光學(xué)鍍膜金字塔尖的光通訊領(lǐng)域的成功應(yīng)用足以說明磁控濺射光學(xué)鍍膜技術(shù)的強大實力和優(yōu)勢！
　　目前最先進最復(fù)雜的光學(xué)薄膜產(chǎn)品制備在歐美，其中美國以濺射技術(shù)為主，包括離子束濺射和磁控濺射，幾乎不采用電子束蒸發(fā)技術(shù)；歐洲則是濺射和電子束蒸發(fā)各半，電子束蒸發(fā)幾乎都輔助以功率強大的等離子源。亞洲和中國的光學(xué)薄膜制備仍然以電子束蒸發(fā)為主，一些著名光學(xué)薄膜制備企業(yè)已開始采用濺射技術(shù)，包括離子束濺射和磁控濺射，如中國的昂納通訊、中南集團、永新光學(xué)等。
　　于2013年5月23-25即將在深圳舉辦的“第六屆深圳國際觸摸屏技術(shù)暨設(shè)備展覽會”上，深圳三束鍍膜技術(shù)公司將重點推介“旋轉(zhuǎn)工件架上在線石英晶體膜厚測控技術(shù)”，此技術(shù)是三束公司的一項核心專利技術(shù)，對磁控濺射鍍膜機意義重大。三束公司從2007年開始研發(fā)了磁控濺射光學(xué)鍍膜機，歷時五年，完成了濺射系統(tǒng)、離子源氧化系統(tǒng)、高速工件驅(qū)動系統(tǒng)、膜厚測控系統(tǒng)、操作系統(tǒng)和鍍膜機整體結(jié)構(gòu)的研發(fā)和設(shè)計。公司磁控濺射光學(xué)鍍膜機產(chǎn)品具體分為兩個方向，一個是濾光片級SAOS-1680系列，每爐鍍膜面積在1.5~3平方米，另一個是AR級的SWOS-1800系列，每爐鍍膜面積為13平方米。SWOS-1800系列就是在這里推介給，其主要針對電容式觸摸屏蓋板玻璃AR、AS膜，SENSOR消反光鍍膜以及大面積的柔性基材的AR鍍膜（如偏光片AR+AS鍍膜和PFT基材AR+AS貼膜鍍膜）的鍍膜加工生產(chǎn)。
　　工件架上在線石英晶體膜厚測控技術(shù)：
　　三束公司自主研發(fā)了旋轉(zhuǎn)工件架上在線石英晶體膜厚測控技術(shù)，解決了工件架上膜厚直接測量的重大難題，也為三束公司磁控濺射光學(xué)鍍膜機系列產(chǎn)品的實現(xiàn)奠定了基礎(chǔ)。

　　旋轉(zhuǎn)工件上晶控探頭照片

　　旋轉(zhuǎn)陰極技術(shù)：
　　光學(xué)膜層對成膜空間均勻性分布要求特別高，旋轉(zhuǎn)陰極（圓柱靶）不同于平面陰極（平面靶），不存在明顯的刻蝕溝槽，所以成膜空間均勻性分布遠優(yōu)于平面陰極。三束公司為磁控濺射光學(xué)鍍膜機專門研制了雙端固定的旋轉(zhuǎn)陰極。其雙端固定結(jié)構(gòu)形式也是為光學(xué)濺射所必須，它避免了單端固定方式非固定端容易產(chǎn)生的搖擺現(xiàn)象，保證了成膜厚度的時間穩(wěn)定性。

　　圓柱靶照片

　　使用純正工業(yè)控制計算機，數(shù)據(jù)穩(wěn)定：
　　SWOS-1800鍍膜機的數(shù)據(jù)中心使用的是高品質(zhì)工業(yè)控制計算機。高品質(zhì)的工業(yè)控制計算機與普通的民用電腦不同，其CPU、內(nèi)存、主板甚至傳輸線等部件都是由特殊工藝制造，其運行可靠性和抗電磁干擾能力都比民用電腦好很多，同樣運算速度和內(nèi)存量的工業(yè)控制計算機比民用電腦價格也高出很多。高品質(zhì)工業(yè)控制計算機的應(yīng)用，為鍍膜機運行的可靠性奠定了基礎(chǔ)。

　　工業(yè)控制計算機照片

　　運行穩(wěn)定性遠優(yōu)于電子束蒸發(fā)鍍膜機：
　　電子束蒸發(fā)鍍膜機，其電子槍控制系統(tǒng)因為有負高壓系統(tǒng)、弱電信號及控制系統(tǒng)，除了其本身的復(fù)雜性以外，負高壓系統(tǒng)又會對弱電信號系統(tǒng)構(gòu)成干擾，這些都會造成鍍膜機整體運行的不穩(wěn)定性，故障率增加。SWOS-1800鍍膜機完全回避了電子束蒸發(fā)鍍膜機的這一缺點，同時，在鍍膜機設(shè)計、元器件采購、制作過程中又堅持可靠性原則，所以其運行穩(wěn)定性遠優(yōu)于電子束蒸發(fā)鍍膜機。
　　生產(chǎn)效率高投資小
　　由于獨特的磁控濺射成膜方式以及優(yōu)化的蒸發(fā)源和夾具之間的關(guān)系，使得真空室容積比真空室直徑2050mm電子束蒸發(fā)機真空室容積還小的SWOS-1800鍍膜機裝載量是2050mm電子束蒸發(fā)機4~5倍，對于AS防污膜來講，其鍍膜時間相同。也就是說，一臺SWOS-1800磁控濺射鍍膜機，其每日AS防污膜產(chǎn)能是2050mm電子束蒸發(fā)機產(chǎn)能的四到五倍。對于AR+AS膜，一臺SWOS-1800磁控濺射鍍膜機，其每日產(chǎn)能是2050mm電子束蒸發(fā)機產(chǎn)能的三倍半還多。
　　對于電容式觸摸屏廠或玻璃蓋板廠，配套鍍膜常能，其投資僅為選擇韓國鍍膜機的1/3，是選擇日本鍍膜機的1/5。該型號鍍膜機已穩(wěn)定為三星等手機廠商的產(chǎn)品多鍍膜加工。