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自主創(chuàng)新:高效觸控蓋板專用鍍膜機(jī)深圳誕生

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2013-04-25  來源:慧聰絲印特印網(wǎng)  瀏覽次數(shù):484
核心提示: 同樣產(chǎn)能投資僅為進(jìn)口設(shè)備1/5到1/3目前,磁控濺射光學(xué)鍍膜在國(guó)內(nèi)還是個(gè)新詞匯。最早的磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)出現(xiàn)在上個(gè)世紀(jì)末
               同樣產(chǎn)能投資僅為進(jìn)口設(shè)備1/5到1/3

    目前,磁控濺射光學(xué)鍍膜在國(guó)內(nèi)還是個(gè)新詞匯。最早的磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)出現(xiàn)在上個(gè)世紀(jì)末的北美(美國(guó)和加拿大),鍍制出來的光學(xué)膜就是AR膜(減反光膜)。隨著技術(shù)的進(jìn)步,幾十層的光學(xué)膜系被磁控濺射鍍膜機(jī)鍍制出來。

    在上世紀(jì)末光通訊大發(fā)展時(shí)期,美國(guó)的一家公司使用磁控濺射鍍膜機(jī)鍍制出100G的DWDM濾光片,目前這種鍍膜機(jī)還在用于CWDM和光通訊截止濾光片的生產(chǎn)。在被稱作光學(xué)鍍膜金字塔尖的光通訊領(lǐng)域的成功應(yīng)用足以說明磁控濺射光學(xué)鍍膜技術(shù)的強(qiáng)大實(shí)力和優(yōu)勢(shì)!

    目前最先進(jìn)最復(fù)雜的光學(xué)薄膜產(chǎn)品制備在歐美,其中美國(guó)以濺射技術(shù)為主,包括離子束濺射和磁控濺射,幾乎不采用電子束蒸發(fā)技術(shù);歐洲則是濺射和電子束蒸發(fā)各半,電子束蒸發(fā)幾乎都輔助以功率強(qiáng)大的等離子源。亞洲和中國(guó)的光學(xué)薄膜制備仍然以電子束蒸發(fā)為主,一些著名光學(xué)薄膜制備企業(yè)已開始采用濺射技術(shù),包括離子束濺射和磁控濺射,如中國(guó)的昂納通訊、中南集團(tuán)、永新光學(xué)等。

    2013年5月23-25即將在深圳舉辦的“第六屆深圳國(guó)際觸摸屏技術(shù)暨設(shè)備展覽會(huì)”上,深圳三束鍍膜技術(shù)公司將重點(diǎn)推介“旋轉(zhuǎn)工件架上在線石英晶體膜厚測(cè)控技術(shù)”,此技術(shù)是三束公司的一項(xiàng)核心專利技術(shù),對(duì)磁控濺射鍍膜機(jī)意義重大。三束公司從2007年開始研發(fā)了磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī),歷時(shí)五年,完成了濺射系統(tǒng)、離子源氧化系統(tǒng)、高速工件驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、膜厚測(cè)控系統(tǒng)、操作系統(tǒng)和鍍膜機(jī)整體結(jié)構(gòu)的研發(fā)和設(shè)計(jì)。公司磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)產(chǎn)品具體分為兩個(gè)方向,一個(gè)是濾光片級(jí)SAOS-1680系列,每爐鍍膜面積在1.5~3平方米,另一個(gè)是AR級(jí)的SWOS-1800系列,每爐鍍膜面積為13平方米。SWOS-1800系列就是在這里推介給,其主要針對(duì)電容式觸摸屏蓋板玻璃AR、AS膜,SENSOR消反光鍍膜以及大面積的柔性基材的AR鍍膜(如偏光片AR+AS鍍膜和PFT基材AR+AS貼膜鍍膜)的鍍膜加工生產(chǎn)。

    工件架上在線石英晶體膜厚測(cè)控技術(shù)

    三束公司自主研發(fā)了旋轉(zhuǎn)工件架上在線石英晶體膜厚測(cè)控技術(shù),解決了工件架上膜厚直接測(cè)量的重大難題,也為三束公司磁控濺射光學(xué)鍍膜機(jī)系列產(chǎn)品的實(shí)現(xiàn)奠定了基礎(chǔ)。

旋轉(zhuǎn)工件上晶控探頭照片

旋轉(zhuǎn)工件上晶控探頭照片

 
 
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